半導体ツールオートメーション

半導体応用分野では、清潔で制御された環境内でウエハを移動するための、高い精度で自動化され、信頼性があり、予測可能な真空性能が必要です。Brooks は、自動処理ソリューションの完全なスイートを提供しています。これは、真空状態と大気のある状態のどちらの場合のウエハ移動に関しても、独立したコンポーネントとして、または統合システムの一部として使用できます。

実績のある極低温に関する機能とリーダーシップを活用して、Brooks は真空ポンプ、冷却、および揚水ソリューションを提供しています。これにより、最も要求が厳しい適用環境に対しても、予測可能で粒子が含まれない真空性能または冷却性能を実現できます。また、Brooks 真空機器ソリューションによって、適用環境に固有の圧力測定、圧力制御、および真空レベル測定を使用できます。

Brooks には、他に類を見ない技術上のリーダーシップ、業界専門知識、および次のような多彩な製品ポートフォリオに基づいて、エッチング、CVD、ALD、PVD、リトグラフ、クリーンと計測、および調査に関して応用分野固有のソリューションを提供してきた長年の経験があります。

Brooks has been the leading provider of automation solutions to the semiconductor market for over 20 years.  As wafer size has migrated from 100mm thru 300mm substrates, Brooks leads the transition with proven solutions and components. As the industry transitions to 450mm wafers, Brooks is once again ready to partner with customers to implement 450mm automation either as select components or as part of complete automation systems.

 

Brooks のソリューションは、アメリカ、ヨーロッパ、中国、台湾、日本、シンガポール、および韓国の各地域をカバーする、豊富な知識を持ち、経験豊富なグローバル サービス チームによって支えられています。